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爐料修正可以不用那么復(fù)雜


日立分析儀器OES結(jié)合了Adjcalc軟件和我們新的操作軟件SpArcfire,操作員因此能夠快速做出所有這些關(guān)鍵決定,同時也有助于增加額外價值。

使用X-MET8000光譜儀在船上完成實驗室標準測試


BrettDuncan是日立分析儀器的區(qū)域銷售經(jīng)理。Brett擁有20多年的XRF、LIBS和OES工業(yè)分析儀銷售經(jīng)驗。

XRF光譜儀在潤滑油質(zhì)量控制中的應(yīng)用


我們所有的設(shè)備都簡單易用。幾乎不需要樣品制備;只需將少量待測油倒入樣品杯中,并將其放入分析儀內(nèi)即可。按下按鈕開始測量,幾分鐘內(nèi)即可獲得結(jié)果。結(jié)果會顯示在集成屏幕上,可以設(shè)置一個簡單的合格或不合格選項,以簡化程序。

徠卡顯微鏡清潔度檢測系統(tǒng)


徠卡清潔度檢測系統(tǒng)已有10 年以上的歷史,迄今為止已可以提供比較完善的清潔度整體解決方案,通過直觀的軟件,較精準的、可重復(fù)的測量過濾膜上的顆粒,為客戶帶來更好的工作效率。

選擇LAB-X5000進行離型膜質(zhì)量控制的5大原因


測量離型膜上的硅涂布量是生產(chǎn)過程中質(zhì)量控制的一個重要方面。如果涂覆的硅太少,則粘合層將永久地粘在基底上,而涂覆過多則會增加生產(chǎn)成本,且不會進一步提高產(chǎn)品質(zhì)量。為了控制硅涂層厚度,行業(yè)通常使用臺式X射線熒光(XRF)分析儀,例如,日立LAB-X5000,因為這些分析儀可提供經(jīng)濟、高效、可靠的無損分析。使用這些分析儀,操作員可快速調(diào)整生產(chǎn)過程,并有助于降低材料成本,同時提高產(chǎn)量。

什么是光學(xué)發(fā)射光譜法(OES)?


光學(xué)發(fā)射光譜法(OES)是一種用于檢測各種金屬元素成分的分析技術(shù),其應(yīng)用廣泛,備受信賴。可使用OES技術(shù)進行檢測的樣品包括金屬熔液、金屬半成品和成品,以及金屬加工業(yè)、管材、螺栓、棒材、線材、板材等等。OES使用的電磁光譜包括可見光譜以及部分紫外光譜。波長范圍為130nm到約800nm。

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