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應用案例
CASE
我們所有的設備都簡單易用。幾乎不需要樣品制備;只需將少量待測油倒入樣品杯中，并將其放入分析儀內即可。按下按鈕開始測量，幾分鐘內即可獲得結果。結果會顯示在集成屏幕上，可以設置一個簡單的合格或不合格選項，以簡化程序。
測量離型膜上的硅涂布量是生產過程中質量控制的一個重要方面。如果涂覆的硅太少，則粘合層將永久地粘在基底上，而涂覆過多則會增加生產成本，且不會進一步提高產品質量。為了控制硅涂層厚度，行業通常使用臺式X射線熒光(XRF)分析儀，例如，日立LAB-X5000，因為這些分析儀可提供經濟、高效、可靠的無損分析。使用這些分析儀，操作員可快速調整生產過程，并有助于降低材料成本，同時提高產量。
光學發射光譜法(OES)是一種用于檢測各種金屬元素成分的分析技術，其應用廣泛，備受信賴。可使用OES技術進行檢測的樣品包括金屬熔液、金屬半成品和成品，以及金屬加工業、管材、螺栓、棒材、線材、板材等等。OES使用的電磁光譜包括可見光譜以及部分紫外光譜。波長范圍為130nm到約800nm。
市場對通信設備、電子可穿戴設備、物聯網的需求，加之汽車和其他行業對電子產品的日益依賴，正推動線路板市場的快速增長。在提高電子元件的產量和滿足更高質量期望的同時，企業正在尋求提高質量的方法。
